原料汽化：將高純度四氯化硅（SiCl?，純度≥99.99%）加熱至 100-150℃汽化，與干燥的空氣（或氧氣）、氫氣按比例混合（氫氣作為燃料，空氣作為氧化劑）。

高溫反應(yīng)：混合氣體通入高溫水解爐（溫度 1000-1200℃），發(fā)生反應(yīng)：SiCl? + 2H? + O? → SiO? + 4HCl，生成的二氧化硅以極細(xì)的氣態(tài)顆粒形式存在。

冷卻與收集：反應(yīng)產(chǎn)物進(jìn)入冷卻器（溫度降至 200-300℃），氣態(tài)二氧化硅顆粒逐漸團(tuán)聚成納米級(jí)粉末，再通過(guò)袋式過(guò)濾器收集。

脫酸與改性：收集的粉末需經(jīng)過(guò)脫酸處理（去除殘留的 HCl，避免牙膏 pH 值異常），部分產(chǎn)品還需進(jìn)行表面改性（如用硅烷偶聯(lián)劑處理，提升與牙膏中油脂成分的相容性）。

質(zhì)量檢測(cè)與包裝：同沉淀法，重點(diǎn)檢測(cè)粒徑分布（10-50nm）、比表面積（300-600m2/g）及純度（SiO?≥99.8%），確保符合高端牙膏需求。